中性子線照射により生じる空隙のMD計算

投稿者: 大窪貴洋 | 2020年12月8日

卒業した岡田くんが取り組んでいた研究の論文が公表されました。中性子の照射で石英がアモルファス化するプロセスをシミュレーションし、結晶化度や空隙を定量的に評価する方法を開発しました。また空隙周辺の構造が特徴的に乱れていることを明らかにしました。黄色の領域は空隙で、右図は空隙周辺の原子のみを抜き出して、表示しています。